酸化アルミニウム絶縁

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アルミニウムを介した電子輸送特性

まず第一に、Al2O3 は、主にその高い抵抗と安定した抵抗のために、コンデンサの効果的な誘電体バリアとして使用されます (1)。

この論文では、プラズマ原子層および熱原子層 (T-ALD) によって堆積された薄いアルミニウム誘電体 (Al2O3) の初期開発段階における比較研究を紹介します。

アルミニウムの表面酸化は完全には理解されていません。電子機器の絶縁体は重要な役割を果たしていますが。アルミ空気電池と保護

酸化アルミニウムは絶縁体です。ただし、セラミック材料としては比較的高い熱伝導率 (30 W m - 1 K - 1) です。ですので、そのままお使いください。

次に、酸化アルミニウム (Al2O3) 誘電体層は、150°C および 300°C の堆積温度 (Tdep) で原子層堆積 (ALD) によって堆積されます。

アルミナ（アルミニウム）は、セラミック材料を製造するための一般的な原料です。高温安定性と強度を備えた優れた絶縁体です。